アカデミアAwardとは
2026年アカデミアAwardエントリー研究室（全34研究室）
| 研究室名 | 研究テーマ名 |
|---|---|
| 岩手大学 山口研究室 | 超ワイドレンジ水素センサーの高速化・高感度化 |
| 東京農工大学 兼橋研究室 | E-wasteのケミカルリサイクル －半導体用ポリイミドの化学的アップサイクル－ |
| 横浜国立大学 磁性・スピントロニクス材料研究室(大竹研究室) | 電子の流れを制御するエピタキシャル単結晶半導体配線技術の開発 |
| 名城大学 岩谷素顕研究室 | 次世代UV-B半導体レーザーダイオードの高性能化と実用化技術の開発 |
| 大阪大学 固体力学研究室 | 高精度原子間ポテンシャルで拓く半導体材料・デバイスの物性予測ツールの開発 |
| 京都大学 ナノ・マイクロシステム工学研究室 | 多層金型成型技術による半導体デバイスの高効率除熱・耐環境性能技術の創出 |
| 広島大学 寺本研究室 | 次世代LSIの高性能化を支えるRu選択成膜プロセス |
| 奈良先端科学技術大学院大学 光機能素子科学研究室 | 半導体LSI技術を応用した特殊イメージセンサの開発 |
| 東京農工大学 生嶋研究室 | キャリア極性を光で操る光制御FETと再構成CMOS論理回路の開発 |
| 近畿大学 機能性デバイス研究室 | 酸化物半導体薄膜を応用したセンサ・デバイス作製と評価 |
| 北海道大学 集積アーキテクチャ研究室 | 脳型インメモリ・リザバーコンピューティングによるイベント駆動AIシステム |
| 東京大学 古関・大西研究室 | データ駆動で究める半導体製造装置の位置・温度・プラズマ制御 |
| 熊本大学 百瀬研究室 | ALDの原料消費・試行回数を削減する高速R&D基盤の構築と社会実装 |
| 東北大学 日暮研究室 | 半導体3D集積のための低温接合の新手法を開発 |
| 東京理科大学 生野研究室 | 革新的物質循環型シナプス素子による物理リザバーコンピューティング応用 |
| 大阪工業大学 新機能複合材料デバイス研究室 | 深紫外エキシマ光アシスト水系溶液プロセスによる高移動度酸化物トランジスタの開発 |
| 北海道大学 先進材料ハイブリッド工学研究室（米澤研究室） | 200 ℃・窒素中で90 MPa級のCu–Cu接合を実現する 一段合成二峰性銅ナノ粒子ペースト ―パワー半導体実装の低温・高信頼・脱銀化に向けた銅焼結接合材料― |
| 帝京大学 棚本研究室 | いっしょに量子コンピュータをつくりませんか？ ～最先端GAA（Gate-All-Around）トランジスタ技術を活用したシリコン量子コンピュータの共創プロジェクト～ |
| 東北学院大学 半導体材料デバイス工学研究室 | フレキシブルプラスチック上のGe CMOS |
| 東京大学 霜垣研究室 | 「Beyond 1nm」への挑戦：原子レベルシミュレーションを活用した 次世代ULSI多層配線形成プロセス開発 |
| 日本大学 ニューロロボティクス研究室 | 半導体デバイスを実装したロボットの開発 |
| 広島大学 半導体産業技術研究所 黒木研究室 | SiC CMOS集積回路技術による過酷環境デジタル技術基盤構築 |
| 崇城大学 北田研究室（精密加工学研究室） | 半導体封止用樹脂成形材料がモールド金型の離型性に及ぼす影響 |
| 東京科学大学 齊藤滋規研究室 | 可変曲率静電吸着装置（A-VCESC）を活用した次世代半導体ウエハ／パネル反り矯正機の開発：最先端パッケージングの歩留まり向上への挑戦 |
| 東京農工大学 荻野研究室 | トリアリールアミン環状体の有機半導体デバイスへの応用展開 ～ペロブスカイト太陽電池を中心として～ |
| 山梨大学 村中研究室 | RTR-MBE法を用いた酸化亜鉛フレキシブルエレクトロニクス技術の創出 |
| 島根大学 藤田・吉田研究室 | 酸化亜鉛ナノ粒子と量子ドットが拓く次世代フルカラーLED |
| 埼玉大学 土方研究室 | Power to Quantum: SiC半導体が切り拓く未来 |
| 京都先端科学大学 ナノシステム研究室 | 超同調シリコンナノ機械共振器 |
| 立命館大学 金子研究室 | 新しいグリーン水素製造技術の開発 |
| 茨城大学 半導体研究室 | 資源が豊富な材料で実現する赤外センサ |
| 大阪大学 山村研究室 | ダイヤモンド半導体を実用化するプラズマ援用研磨技術 ― 高能率・原子精度・無歪加工から社会実装まで ― |
| 佐賀大学 嘉数(パワー半導体)研究室 | 電子線描画技術を用いた157nmゲート長のダイヤモンドFETの作製と 最大発振周波数(fMAX)120GHzの達成 |
| 千葉大学 青木研究室 | 大学発2D-CFET構造実現への挑戦 |
開催概要
| 開催日 | 2026年12月9日（水） |
|---|---|
| 研究発表会場 （二次審査への進出研究室） | 東京ビッグサイト SEMICON Japan2026 会場内 |
| 最優秀賞・優秀賞 表彰会場 | SEMICON Japan 2026 GALA（都内） |
| 費用 | 無料 |
| 応募条件 | 下記の条件を満たす大学 SEMICON Japan会場内「アカデミア」エリアに出展している研究室であること ※尚、共同研究、及び事業化が決定されている研究も一昨年度から応募対象となりました。 |
審査基準
| 審査項目 | 配点 | 説明 | 審査対象 | |
|---|---|---|---|---|
| TRL 1～5 | TRL 6～9 | |||
| 審査項目 革新性・発明力 | 配点 20点 | 配点 10点 | 説明 対象とするテーマについて、業界・市場内の課題感、アプローチ手法、効果の3点において、新規性や有用性から、革新性および発明力を評価 | 審査対象 1次審査 2次審査 |
| 審査項目 市場性 | 配点 5点 | 配点 10点 | 説明 対象とするテーマについて、業界/市場への影響度および実装されるまでの時間軸、対象エリアの範囲の3点を主要項目として評価 | 審査対象 1次審査 2次審査 |
| 審査項目 技術パートナー・ネットワーク構築力 | 配点 5点 | 配点 10点 | 説明 対象とするテーマの技術の開発において、連携している範囲、実装している範囲、将来的に広げられる範囲について評価 | 審査対象 1次審査 2次審査 |
| 審査項目 表現力・プレゼンテーション | 配点, 配点 10点 | 説明 制限時間内で研究内容をいかに魅力的に、分かりやすく表現できたかを評価 | 審査対象 2次審査 | |
| 審査項目 次世代育成力・チーム力 | 配点, 配点 10点 | 説明 研究職以外の研究者（ポスドク、院生、大学生）がどの程度発表した研究に寄与し、寄与できるように育成しているかを評価 | 審査対象 2次審査 | |
一次審査（書類）では「革新性・発明力」「市場性」「技術パートナー・ネットワーク構築力」を審査し（30点満点）二次審査では上記の5項目全て（50点満点）を審査します。
審査体制
審査員および事務局は下記メンバーとなっております。
審査委員長
東京科学大学 副学長 大嶋 洋一氏
企業審査員
※氏名50音順
株式会社SUMCO 技術企画部 部長 浅山 英一氏
東レエンジニアリング株式会社 技監開発部門担当 新井 義之氏
村田機械株式会社 クリーンＦＡ事業部 技術統括部長 徳本 光哉氏
ラムリサーチ合同会社 Field Process Senior Director 吉田 和由氏
株式会社堀場製作所 開発本部 副本部長 井上正規氏
SEMI審査員
SEMIジャパン インダストリースペシャリスト 渥美 しのぶ氏
事務局
SEMIジャパン 片山 琢哉、高井 竜之介 / 株式会社アフレル 柏崎 暁子、山本 智、安川 はるな、髙村 佑美
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お問合せ先
[email protected]
アカデミアAward事務局
担当：髙村、安川（株式会社アフレル内）