オックスフォード・インストゥルメンツ(株)

Hall5（東5ホール内ステージ）

オックスフォード・インストゥルメンツのALDおよびALEソリューションでは、最大200mmウェハを用いたGaN HEMTデバイス製造向けに、均一で低ダメージの高速プラズマプロセス提供しています。小型で高速動作かつ高効率な次世代パワーエレクトロニクスやRFデバイス製造において、GaN HEMTデバイスの信頼性が大幅に向上します。