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STSオーサーズインタビュー Day 3 : SEMIテクノロジーシンポジウム(STS)装置編/先端リソグラフィー 編

2020/12/18(金) | 15:30 - 16:30

★オーサーズインタービューはライブ配信後、録画公開の予定はございません。

SEMIテクノロジーシンポジウム(STS)の特長のひとつとして受講者が講演者に直接質問できるオーサーズインタビューの機会を設けております。バーチャル開催となった今回もライブ中継で、講師の方々をおつなぎし、オーサーズインタビューを実施します。(オンラインチャットではなく、挙手機能を使用し講演者と直接お話しいただく形式で実施の予定です。)以下のスケジュールをご確認の上、ご参加の方は事前にオンデマンドにて講演のご視聴をお済ませの上、15:30になりましたらライブコンテンツにアクセスしてください。

 

15:30       イントロダクション
           キオクシア/冨田

15:35       装置 (株)アルバック/神保 武人
           サマリ講演 「新型不揮発性メモリ用機能性材料薄膜形成技術」  
           オーサーズインタビュー          

16:00       先端リソグラフィー 編 大日本印刷(株)/林 直也
           サマリ講演 「EUVリソグラフィ用フォトマスクの最新動向」 
           オーサーズインタビュー

16:30       終了

 

参加申込はこちら

Speakers

神保 武人

神保 武人

(株)アルバック 先進技術研究所 参事

新型不揮発性メモリ用機能性材料薄膜形成技術

林 直也

林 直也

大日本印刷(株) ファインオプトロニクス事業部 フェロー

EUVリソグラフィ用フォトマスクの最新動向