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日本セミラボ:①イオン注入/アニール工程管理に向けた、検査測定技術紹介/②GaN、SiC、およびAlGaN / GaNの電気特性を非接触で評価する技術を紹介

2020/12/16(水) | 10:30 - 11:00

①イオン注入/アニール工程管理に向けた、検査測定技術紹介

近年、最先端ロジック、メモリー、イメージセンサー、パワーデバイスなど各種デバイス製造において、イオン注入工程が複雑化しています。より深い領域へ、各種元素をタイトにコントロールすることが求められています。本セミナーでは、これら工程管理に向けた、セミラボ製品をご紹介します。

 

②GaN、SiC、およびAlGaN / GaNの電気特性を非接触で評価する技術を紹介

Si IC製造用に開発されたコロナケルビン非接触技術が最近ワイドギャップ半導体材料に応用されています。このセミナーでは、SiCおよびGaNの高精度ドーパント測定、AlGaN / GaN HEMT構造における二次元電子ガスの特性評価、SiC MOSFETの誘電体界面特性評価、QUAD測定によるウェーハ全体の欠陥マッピングなど、非接触技術の主要なアプリケーションを紹介します。

 

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