セミナーとイベント
SEMIテクノロジーシンポジウム(STS)2012 講演論文募集
SEMI(本部:米国カリフォルニア州サンノゼ)は、2012年12月5日(水)~7日(金)、幕張メッセ 国際会議場(千葉市美浜区)において開催する「SEMIテクノロジーシンポジウム 2012」(略称:STS 2012)の発表論文を募集します。募集要項は下記の通りです。
応募方法:
論文の要件:
募集期間:
論文の採択:
提出先:
SEMIテクノロジーシンポジウム(STS) 2012 開催概要
募集項目
◆リソグラフィ
光露光装置(液浸含む)
EUV露光装置
像評価技術
収差
重ね合わせ(オーバーレイ)
フォーカス
超解像技術
フォトレジスト
光源開発
次世代パターニング技術-EB/ナノインプリント/DSA/その他
計測技術
露光シュミュレーション技術
ダブル/マルチプルパターニング
コンピューテーショナル・リソグラフィ
◆マスク/DFM
DFM技術
設計・プロセスのインテグレーション技術
OPC、PPC、RETマスクデータ処理技術
ORC技術、プロセスモデリング, マスク転写シミュレーション技術
PSM、クロムレスマスク技術
EUVマスク技術
マスク製造プロセス技術
マスク計測技術
検査/修正技術
洗浄/ペリクル/Haze対策技術
マスクプロセス制御技術
ナノインプリント用テンプレート技術
マスク描画技術
マスクハンドリング技術
◆検査/メトロロジー
CD計測
パターンプロファイル計測
ホットスポット検査
膜厚計測
Integrated Metrology
Virtual Metrology
異物・欠陥検査
欠陥レビュー・分析
Yield Management
電気特性検査
TEG
◆先端デバイス/プロセス
<デバイス高性能化技術 (More Moore)>
先端ロジック
先端メモリデバイス
アナログ・受動デバイス
高耐圧デバイス
新探求デバイス(ポストCMOS・新規メモリ)
<回路多機能化技術 (More Than Moore)>
オンチップ2・3次元回路集積技術(SOC)
パッケージ3次元回路集積技術(SiP)
回路接続技術(TSV・光・無線等)
多機能混載デバイス
(Siロジックデバイスと
メモリ・アナログ・受動・高耐圧デバイス、
Siヘテロデバイス、
MEMS、
バイオチップ、
有機デバイス、
発光素子、
発電素子等)
<先端デバイスプロセス>
◆パッケージング
<新製品>
LED
センサー
R-Fモジュール
パワーデバイス
MEMS製品
<新技術>
SiP
フリップチップ
超高速対応の実装技術
環境調和型実装技術
3Dパッケージング技術/TSV等
ウェハーレベルパッケージング
熱、電気設計
マルチバス(Wide I/O) 接続 マイクロバンプ等
印刷(プリンテッド技術)
◆テスト
DFT, DFM, DFA, DFR
テストコスト
解析技術
測定手法
検査装置、測定周辺技術(プローブ、コンタクト等)
その他(OSAT活用など)
◆マイクロシステム/MEMS
マイクロシステム 微小電気機械システム (MEMS) マイクロマシニング ナノマシニング 製造・試験装置 マイクロセンサ マイクロアクチュエータ マイクロ構造体 流体デバイス マイクロエネルギ源 パッケージング 集積化MEMS MEMS材料 MEMS請負開発・生産 国内外事情
よくある質問はこちら
お問合せ
SEMIジャパン プログラム部
〒102-0074 東京都千代田区九段南4-7-15
Tel: 03.3222.5993 Fax: 03.3222.5790
Email: jprogram@semi.org